Mikrosystemtechnik

Zweilagen-EpiPolySilizium-Prozess

Das Fraunhofer ISIT hat eine innovative Herstellungstechnologie zur Herstellung von leistungsfähigen MEMS Scannern entwickelt. In Anlehnung an die schon bereits bestens am ISIT etablierte Herstellungstechnologie PSM-X2 für Inertialsensoren werden die Scanner aus zwei 30 µm dicken Epipoly-Siliziumschichten strukturiert.

Auf diese Weise können höhenversetzte Fingerelektroden realisiert werden, die sowohl zum elektrostatischen Antrieb der Scanner als auch zur kapazitiven Positionsdetektion der Spiegelstellung benutzt werden können. Durch laterale Durchführungen mittels einer vergrabenen Leiterbahnebene zwischen den beiden Siliziumschichten wird die Scannerstruktur mit einer Vielzahl von elektrischen Potenzialen kontaktiert. Die Reflektivität der eigentlichen Spiegelplatte kann mit unterschiedlichen Metallschichten (Al, Ag, Au) gesteigert werden.