Institutsprofil

Kurzporträt

Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie (ISIT) entwickelt und fertigt kundenspezifisch Bauelemente der Leistungselektronik und der Mikrosystemtechnik. Wichtige Einsatzgebiete sind die Energietechnik, die Automobil- und Verkehrstechnik, die Konsumgüterindustrie, die Medizintechnik, die Kommunikations- und die Automatisierungstechnik. Die modernste technologische Ausstattung auf der Basis einer 200 mm-Silizium-Wafertechnologie und das über Jahrzehnte aufgebaute Know-how sichern dem ISIT und seinen Kunden eine weltweit führende Position auf dem Gebiet.

Das ISIT unterstützt seine Kunden vom Entwurf und der Systemsimulation bis hin zur Fertigung von Prototypen, Bemusterung und Serienvorbereitung. Das Institut beschäftigt heute etwa 190 Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter mit ingenieur- und naturwissenschaftlichen Ausbildungsprofilen.

Das ISIT befasst sich mit allen wichtigen Aspekten der Systemintegration, der Aufbau- und Verbindungstechnik (Packaging) und der Zuverlässigkeit und Qualität von Bauelementen, Modulen und Systemen. Anwendungsspezifische Schaltungen (ASICs) für die Sensorik und Aktorik werden ebenfalls bereitgestellt. Zum Leistungsangebot des ISIT gehören weiterhin Entwicklungen im Bereich der elektrischen Energiespeicher mit dem Schwerpunkt im Bereich von Li-Polymer-Akkumulatoren.

Ein Alleinstellungsmerkmal des ISIT ist der schnelle Transfer innovativer Entwicklungen in die industrielle Anwendung und Produktion. Dafür arbeitet das ISIT in seinen Reinräumen mit der laufenden Waferproduktion der Firmen Vishay und X-FAB MEMS Foundry Itzehoe zusammen. Es bestehen langjährige Kooperationen mit verschiedenen produzierenden Unternehmen im Umfeld des ISIT.
 
Das ISIT betreibt ein Anwendungszentrum an der HAW in Hamburg, eine Projektgruppe an der FHW in Heide und eine Arbeitsgruppe an der Christian-Albrechts-Universität zu Kiel.