Institutsprofil

Kurzporträt

Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT entwickelt und fertigt kundenspezifisch Bauelemente der Leistungselektronik und der Mikrosystemtechnik. Wichtige Einsatzgebiete sind die Energietechnik, die Automobil- und Verkehrstechnik, die Konsumgüterindustrie, die Medizintechnik, die Kommunikations- und die Automatisierungstechnik. Die modernste technologische Ausstattung auf der Basis einer 200 mm-Silizium-Wafertechnologie und das über Jahrzehnte aufgebaute Know-how sichern dem ISIT und seinen Kunden eine weltweit führende Position auf dem Gebiet.

Das ISIT unterstützt seine Kunden vom Entwurf und der Systemsimulation bis hin zur Fertigung von Prototypen, Bemusterung und Serienvorbereitung. Etwa 160 Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter mit ingenieur- und naturwissenschaftlichen Ausbildungsprofilen arbeit im Institut.

Zu den wichtigen Aspekten des Instituts gehören: Systemintegration, Aufbau- und Verbindungstechnik (Packaging) und Zuverlässigkeit und Qualität von Bauelementen, Modulen und Systemen. Anwendungsspezifische Schaltungen (ASICs) für die Sensorik und Aktorik werden ebenfalls bereitgestellt. Entwicklungen im Bereich der elektrischen Energiespeicher mit dem Schwerpunkt im Bereich von Li-Polymer-Akkumulatoren gehören weiterhin zum Leistungsangebot des ISIT.

Ein Alleinstellungsmerkmal des Instituts ist der schnelle Transfer innovativer Entwicklungen in die industrielle Anwendung und Produktion. Dafür arbeitet das ISIT in seinen Reinräumen mit der laufenden Waferproduktion der Firmen Vishay Siliconix Itzehoe GmbH und X-FAB MEMS Foundry Itzehoe GmbH zusammen. Es bestehen langjährige Kooperationen mit verschiedenen produzierenden Unternehmen im Umfeld des Instituts. Das Qualitätsmanagementsystem am Fraunhofer ISIT ist qualifiziert nach ISO 9001:2015.
 
Das ISIT betreibt eine Außenstelle in Hamburg, eine Projektgruppe an der FHW in Heide und eine Arbeitsgruppe an der Christian-Albrechts-Universität zu Kiel.

Geleitet wird das Fraunhofer ISIT von Dr. Axel Müller-Groeling.