Deutsch-amerikanischer Austausch zu Mikroelektronik, Innovationsökosys-temen und technologischer Souveränität

Pressemitteilung /

Das Fraunhofer ISIT begrüßte letzte Woche eine amerikanisch-deutsche Delegation im Rahmen des German-American Semi-conductor Cities Network (GASCN) am Standort Itzehoe. Ziel des Besuchs war der internationale Austausch über aktuelle Entwicklungen in der Mikro-elektronik, den Aufbau resilienter Halbleiterökosysteme sowie Strategien zur Förderung von Innovation, Fachkräften und Technologietransfer.

Das German-American Semiconductor Cities Network bringt Akteure aus deutschen und amerikanischen Halbleiterregionen zusammen, um den transatlantischen Dialog zwischen For-schung, Industrie, Politik und regionalen Innovationsnetzwerken zu stärken. Organisiert und administriert wird das Netzwerk durch den American Council on Germany mit Unterstützung des Transatlantic Program der Bundesrepublik Deutschland, gefördert aus Mitteln des Euro-pean Recovery Program (ERP) des Bundesministeriums für Wirtschaft und Energie (BMWE).

Bereits im November vergangenen Jahres hatten die deutschen Teilnehmenden im Rahmen einer USA-Reise Innovations- und Forschungsstandorte in Albany (New York) sowie Austin (Texas) besucht. Der diesjährige Gegenbesuch führte die amerikanischen Gäste nun nach München, Hamburg und Itzehoe.

 

Im Mittelpunkt des Programms in Itzehoe standen das Fraunhofer ISIT, das InnoQuarter sowie weitere Akteure des regionalen Halbleiter- und Innovationsökosystems. Die Delegation erhielt Einblicke in Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten entlang moderner Mikroelektronik- und Leistungselektroniktechnologien sowie in die enge Verzahnung von Wissenschaft, Industrie und Standortentwicklung.

Die Institutsleiter Alexander Heuer und Fabian Lofink präsentierten die technologische Ausrichtung und Forschungsfelder des Fraunhofer ISIT. Ergänzt wurde das Programm durch eine Window Tour von Oliver Schwarzelbach durch die Forschungsinfrastruktur des Instituts, bei der die internationalen Gäste Einblicke in Entwicklungs- und Reinraumprozesse erhielten. Darüber hinaus stellte Standortpartner Vishay seine Aktivitäten am Standort Itzehoe vor.

„Die Halbleiterindustrie steht weltweit vor großen technologischen und geopolitischen Herausforderungen. Internationale Kooperationen und der Austausch zwischen Forschungs- und Innovationsökosystemen sind entscheidend, um technologische Souveränität, Innova-tionsfähigkeit und resiliente Wertschöpfungsketten weiter auszubauen“, erklärt Alexander Heuer, Institutsleiter des Fraunhofer ISIT.

 

Neben Forschungs- und Industrieeinrichtungen standen während der Deutschlandreise auch Themen wie Quantentechnologien, KI-Anwendungen, Fachkräfteentwicklung und regionale Innovationsstrategien im Fokus des Programms. Zu den weiteren Stationen gehörten unter anderem Forschungseinrichtungen und Unternehmen in München und Hamburg.

Mit dem Besuch unterstreicht das Fraunhofer ISIT die internationale Sichtbarkeit des Standorts Itzehoe als Teil eines leistungsfähigen europäischen Mikroelektronik-Ökosystems und die Bedeutung transatlantischer Kooperationen für die Zukunft der Halbleiterindustrie.