Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung ist als eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) zu betrachten. Dabei wird die chemische Abscheidung lediglich durch ein Plasma unterstütz. Dabei dient das Plasma als Katalysator für die Reaktion der Reaktivgase. Die Abscheidetemperaturen liegen gewöhnlich zwischen 100 und 600°C.