Prozesstechnologie

Das ISIT betreibt zusammen mit Vishay Semiconductor Itzehoe GmbH eine moderne  „front end“ Halbleiterproduktionslinie für 200 mm Si-Wafer. Diese Linie wird von Vishay für die Produktion von Leistungsbauelementen (PowerMOS und IGBT) und vom ISIT für Entwicklungsprojekte genutzt.  

Auf Basis einer qualifizierten Produktionstechnologie verfügt das ISIT über ein breites Spektrum modernster Halbleiterprozesse, die für unterschiedliche Entwicklungsaufgaben eingesetzt werden. Hervorzuheben ist u.a. die Technologie zur Bearbeitung ultradünner Substrate (< 50 µm) sowie die Dotierstoffaktivierung mittels Laser-Aktivierung. Des Weiteren bietet das ISIT eine Vielzahl spezieller „back end“ Prozesse an, wie z.B. neue Metallisierungsverfahren für fortschrittliche Aufbautechniken.