Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland

Um die Position der europäischen Halbleiter- und Elektronikindustrie im globalen Wettbewerb zu stärken, organisieren sich elf Institute des Fraunhofer-Verbunds Mikroelektronik – darunter das Fraunhofer ISIT - sowie das Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik und das Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik in einer standortübergreifenden Form. Die neue Organisation agiert seit Frühjahr 2017 als »Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland«.

Das für die Forschungsfabrik von Fraunhofer und Leibniz gemeinsam entwickelte Konzept sieht vor, die technologischen Fähigkeiten in einem gemeinsamen Technologiepool zusammenzuführen, Ausstattungslücken abgestimmt zu schließen und die wichtigen Laborlinien für Mikroelektronik-Technologien an die technische Entwicklung anzupassen. Für die Modernisierung und Ergänzung ihrer Anlagen und Geräte erhalten die 13 beteiligten Forschungseinrichtungen insgesamt rund 350 Millionen Euro von dem Bundesministerium für Bildung und Forschung.

Die Investitionen für das Fraunhofer ISIT in Höhe von 19,3 Mio. Euro dienen der Modernisierung und dem Ausbau der Reinraumausstattung mit den Schwerpunkten Leistungselektronik und neuartige Sensorsysteme.

In der Leistungselektronik wird das ISIT Anlagen für die Erschließung von Gallium-Nitrid als neue Materialbasis für innovative Leistungsbauelemente bereitstellen, die es bisher am Institut nicht gab. Auch für die Entwicklung von Sensoren und Aktoren werden neue Anlagen angeschafft, beispielsweise Geräte zum Aufbringen von piezoelektrischen und magnetischen Materialien auf Silizium, Aufdampfanlagen für spezielle optische und Infra-Rot Beschichtungen und Ofensysteme, in denen Wafer aus Glas viskos spezifisch geformt werden können.

Das ISIT kann mit diesem neuen Gerätepark der Industrie zukunftsweisende Fertigungsverfahren anbieten und ist in der Lage neuartige Bauelemente zu entwickeln und in die Produktion zu überführen.